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介绍颅脑肿瘤照射技术

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国外在选择照射野质子治疗中,常常采用的照射技术包括单野照射,几个照射野交叉到或叠加到PTV上照射、相邻衔接野照射,或者上述技术联合应用。多野照射中每个野的剂量可以不均匀,经过叠加后获得均匀的剂量分布。
在治疗计划过程中,主要考虑的问题很多,比如选择每个照射野的方向和权重,照射野宽度应该能够覆盖肿瘤区域,并能提供均匀的侧向剂量分布。然而单野照射常常适用于小肿瘤,位置浅并且肿瘤后,没有危及器官相邻。
对于多野照射技术比较常用,因为单野照射不能总是有效地避开危及器官,而且使用多野技术,可以减少由于摆位误差,造成肿瘤后会危及器官的超剂量照射的可能性。针对多野照射,也可以降低肿瘤周围正常组织和皮肤剂量。
而针对位于中心部位的肿瘤,尽量使用两个对穿野,这种射束设置的方式,可以获得均匀的生物学剂量分布,和中等皮肤剂量。单野技术会由于质子射束优越的物理特性,使得单野照射技术,使用于治疗小体积并且肿瘤后方,没有危及器官的相邻靶区。
特别是在颅脑肿瘤和脊柱、脊柱旁靶区治疗时,穿野技术对穿野照射,是比较常用的照射技术。可以使靶区外正常组织的受照剂量,降为靶区剂量的50%以下。而两野或多野交叉的技术,是常用的照射技术,尤其是在复杂、大体积靶区治疗时。
本文为海外就医科普文章,内容仅供阅读参考,不作为任何疾病治疗的指导意见。
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